Trần , H. P.; Nguyễn , D. L.; Đào , H. X. T. ỨNG DỤNG VẬT LIỆU SILICA GEL MANG CHẤT LỎNG ION KHUNG BIS(TRIFLUOROMETHYL)SULFONYL)AMIDE LÀM PHA TĨNH TRONG CỘT CHIẾT PHA RẮN ĐỂ PHÂN TÍCH KIM LOẠI NẶNG Cr3+, Ni2+, Mn2+, Cu2+ VÀ Cd2+ TRONG NƯỚC. Tạp chí Khoa học 2024, 21, 1190.