Trần , H. P., Nguyễn , D. L. và Đào , H. X. T. (2024) “ỨNG DỤNG VẬT LIỆU SILICA GEL MANG CHẤT LỎNG ION KHUNG BIS((TRIFLUOROMETHYL)SULFONYL)AMIDE LÀM PHA TĨNH TRONG CỘT CHIẾT PHA RẮN ĐỂ PHÂN TÍCH KIM LOẠI NẶNG Cr3+, Ni2+, Mn2+, Cu2+ VÀ Cd2+ TRONG NƯỚC”, Tạp chí Khoa học Trường Đại học Sư phạm TP Hồ Chí Minh, 21(7), tr 1190. doi: 10.54607/hcmue.js.21.7.4136(2024).