H. P. Trần, D. L. Nguyễn, và H. X. T. Đào, “ỨNG DỤNG VẬT LIỆU SILICA GEL MANG CHẤT LỎNG ION KHUNG BIS((TRIFLUOROMETHYL)SULFONYL)AMIDE LÀM PHA TĨNH TRONG CỘT CHIẾT PHA RẮN ĐỂ PHÂN TÍCH KIM LOẠI NẶNG Cr3+, Ni2+, Mn2+, Cu2+ VÀ Cd2+ TRONG NƯỚC”, Tạp chí Khoa học, vol 21, số p.h 7, tr 1190, tháng 8 2024.